半導體等離子清洗設備為何采用鋁合金腔體比較多:
半導體等離子清洗設備常用的材料有石英玻璃、不銹鋼和鋁合金等,不同行業(yè)和應用領域的選擇會有所不同。在半導體行業(yè),大多數半導體等離子清洗設備都使用鋁合金,原因何在?
半導體工業(yè)用的等離子清洗設備清洗、刻蝕過程中對真空反應腔材料的選擇比較講究,畢竟晶片、支架等產品的加工環(huán)境要求較高。誠峰智造半導體等離子清洗設備選用鋁合金質腔體的原因大致如下:
1、鋁合金密度低,強度高,優(yōu)于優(yōu)質鋼,具有較好的機械加工性能。
2、鋁具有良好的導電、導熱和抗腐蝕性能。
3、材料對化學反應的兼容性較好,不易產生金屬污染,不會產生污染等。
4、鋁合金在表面處理方面比較豐富,包括電泳,噴涂,陽極氧化等。
5、趨膚深度為鋁鋁比不銹鋼高10倍以上,使電流分布更加均勻,不易產生熱源。
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