au靶濺射成膜裝置msp-mini介紹
采用反應(yīng)射頻磁控濺射法制備au復(fù)合薄膜,并對(duì)使用au靶共濺射、分步濺射方式以及在不同的襯底溫度和ar/o2氣體流量比下制備的樣品進(jìn)行x射線光電子能譜、x射線衍射和掃描電子顯微鏡分析,研究了主要工藝參數(shù)對(duì)復(fù)合薄膜表面成分和形貌的影響.結(jié)果表明,采用共濺射方式制備的復(fù)合薄膜中au元素的含量偏高,薄膜表面有團(tuán)聚生長(zhǎng)的au晶粒,而采用分步濺射法可以使復(fù)合薄膜中au元素的摩爾百分比下降到7.30％.采用分步濺射制備復(fù)合薄膜時(shí),較高的襯底溫度有助于mgo晶粒的生長(zhǎng),當(dāng)襯底溫度為500℃,通入ar氣和o2氣的流量分別為25和5ml/min時(shí),mgo晶粒尺寸達(dá)到了30～40 nm;mo薄膜主要呈現(xiàn)出了(111)、(200)和(220)三種結(jié)晶取向,較高的ar/o2氣體流量比有利于(200)晶向的形成,而較低的ar/o2氣體流量比有利于(220)晶向的形成。
msp-mini是桌上sem觀察·光學(xué)顯微鏡用離子濺射成膜裝置。
●用一個(gè)按鈕自動(dòng)涂層。沒(méi)有任何繁瑣的操作。
●去除所有贅肉的高性價(jià)比機(jī)。我是msp-1s的弟弟。
●小型目標(biāo)（φ30mm）。實(shí)現(xiàn)低運(yùn)行成本。
●標(biāo)準(zhǔn)附帶au靶。在桌上sem的預(yù)處理中發(fā)揮實(shí)力。
●可選靶ag膜具有良好的光澤，便于透明材料表面的光學(xué)顯微鏡觀察。