等離子清洗技術(shù)在光電陰極輔件清潔處理中的應(yīng)用：
等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗機(jī)的輝光放電加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。
因此等離子清洗作為一種新型清潔技術(shù)，將會(huì)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。以微光像增強(qiáng)器為代表的真空光電子器件在國防、科研等行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用，在國內(nèi)受到很高的重視。微光像增強(qiáng)器是利用光電陰極在景物輸入光子的激發(fā)下，產(chǎn)生相應(yīng)光電子圖像，從而將微弱的或不可見的輻射圖像轉(zhuǎn)換成電子圖像，在超高真空管體內(nèi)，電子光學(xué)系統(tǒng)對(duì)光電子施加很強(qiáng)的電場(chǎng)，并受電子光學(xué)透鏡聚焦(或通過微通道板電子倍增的方式)，以高能量電子轟擊熒光屏發(fā)光，實(shí)現(xiàn)入射光能量的成倍增加，從而產(chǎn)生人眼可見的相應(yīng)光子圖像的成像器件。
微光像增強(qiáng)器屬于真空光電成像器件，其生產(chǎn)制造工藝流程復(fù)雜、繁多，其生產(chǎn)制造中表現(xiàn)出兩大特性：超高真空，超高潔凈，特別是碳氧氫類污物的去除對(duì)器件的穩(wěn)定性至關(guān)重要。因此該器件對(duì)工序流傳中零部件、輔件及半成品組件等有非常高的潔凈度要求。以像增強(qiáng)器光電陰極制造中所使用的輔件：銻堿座和單管座為例，該兩個(gè)輔件是光電陰極制造過程中主要的工具，其陶瓷接線柱的絕緣性能直接影響光電陰極制造的生產(chǎn)質(zhì)量。銻堿座和單管座的結(jié)構(gòu)緊湊，陶瓷接線柱分布密集，金屬桿處的凹槽空間狹小，使用工具進(jìn)行擦洗難度很大。
先前對(duì)陶瓷接線柱絕緣性能不好的銻堿座和單管座使用化學(xué)浸泡(rbs清洗劑)和超聲清洗的方式進(jìn)行，利用這些清洗方式對(duì)陶瓷接線柱絕緣性能不好的銻堿座和單管座進(jìn)行清洗。雖然銻堿座的陶瓷接線柱絕緣性能得到了一定改善，但經(jīng)過短時(shí)間的使用后又會(huì)反復(fù)出現(xiàn)陶瓷接線柱漏電流過大，表現(xiàn)為清洗不。應(yīng)用此種方法清洗，使得銻堿座、單管座的清洗頻率過高，使用頻率較低，同時(shí)加大了使用成本，也增加了對(duì)環(huán)境的污染。對(duì)當(dāng)前陶瓷接線柱絕緣性能不好的銻堿座和單管座，采用等離子清洗技術(shù)進(jìn)行清洗。使用等離子清洗機(jī)清洗時(shí)，等離子清洗機(jī)的整個(gè)石英腔體中充滿了等離子體，對(duì)工件的任意部位，包括普通清洗方法不能清洗到的細(xì)小凹槽、狹縫、微孔等部位都能進(jìn)行全面的清潔。同時(shí)利用等離子清洗能從根本上改善陶瓷接線柱的絕緣性能，延長(zhǎng)銻堿座和單管座的使用周期，提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本，減少對(duì)環(huán)境的污染。充分認(rèn)識(shí)新型清潔技術(shù)在光電陰極輔件清潔處理中的應(yīng)用，革新原清潔處理方式，提高像增強(qiáng)器輔件的清潔效果，提高產(chǎn)品工序良品率及工作效率。