光的干涉在薄膜光學(xué)中應(yīng)用廣泛. 光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學(xué)鍍膜是光學(xué)器件上的單個或多個材料沉積薄層, 實現(xiàn)多樣功能, 典型應(yīng)用例如在鏡片鍍膜中, 為了消除光學(xué)零件表面的反射損失, 提高成像質(zhì)量, 涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜, 稱為增透膜或減反射膜. 薄膜沉積在新型特殊性能材料的開發(fā)和研究中起到重要作用.
光學(xué)鍍膜是如何工作的？
待鍍膜工件裝入鍍膜室, 其內(nèi)將執(zhí)行噴濺工藝流程. 通常是兩個離子源, 一個濺射沉積源, 一個預(yù)清潔和輔助沉積源.離子源在真空環(huán)境中產(chǎn)生離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 從而將薄膜加鍍到工件上. 此處所需的典型真空壓力一般小于 1x10-4hpa.清潔無碳真空環(huán)境和高穩(wěn)定的離子束流是實現(xiàn)精確的高質(zhì)量的薄膜關(guān)鍵.
光學(xué)鍍膜中離子源作用
通過使用上海伯東美國kri 離子源可實現(xiàn)基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好, 膜層不易脫落. 其中射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國kri 離子源中國總代理.
上海伯東kri射頻離子源rficp參數(shù):
型號
rficp 40
rficp 100
rficp 140
rficp 220
rficp 380
discharge 陽極
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
rf 射頻
離子束流
>100 ma
>350 ma
>600 ma
>800 ma
>1500 ma
離子動能
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
100-1200 v
柵極直徑
4 cm φ
10 cm φ
14 cm φ
22 cm φ
38 cm φ
離子束
聚焦, 平行, 散射
流量
3-10 sccm
5-30 sccm
5-30 sccm
10-40 sccm
15-50 sccm
通氣
ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
典型壓力
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
< 0.5m torr
長度
12.7 cm
23.5 cm
24.6 cm
30 cm
39 cm
直徑
13.5 cm
19.1 cm
24.6 cm
41 cm
59 cm
中和器
lfn 2000
光學(xué)鍍膜中真空系統(tǒng)
不論是蒸發(fā)鍍膜還是濺射鍍膜, 上海伯東提供滿足各種鍍膜工藝的德國 pfeiffer 真空泵, 比如分子泵,旋片泵, 螺桿泵及整套泵站, 同時提供用于真空測量的真空規(guī)和用于鍍膜設(shè)備腔體密封性泄露檢測的氦質(zhì)譜檢漏儀, 以保證鍍膜工藝穩(wěn)定性.
推薦大抽速分子泵參數(shù)
型號
hipace 1200
hipace 1500
hipace 1800
hipace 2300
進(jìn)氣口
dn 200 iso-k
dn 200 iso-f
dn 200 cf-f
dn 250 iso-k
dn 250 iso-f
dn 250 cf-f
dn 200 iso-k
dn 200 iso-f
dn 200 cf-f
dn 250 iso-k
dn 250 iso-f
dn 250 cf-f
氮?dú)獬樗?l/s
1250
1400
1450
1900
極限真空度 hpa
< 1x10-7
< 1x10-7
< 1x10-7
< 1x10-7
電壓 v ac
100-120
200-240
100-120
200-240
100-120
200-240
100-120
200-240
氮?dú)鈮嚎s比
> 1x108
> 1x108
> 1x108
> 1x108
轉(zhuǎn)速 rpm
37800
37800
31500
31500
預(yù)抽真空 hpa
2
2
1.8
1.8
若您需要進(jìn)一步的了解光學(xué)鍍膜機(jī)中的離子源和真空系統(tǒng), 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅小姐