在線(xiàn)式等離子清洗機(jī)等離子體處理硅油光致發(fā)光性能影響：
顯示和發(fā)光技術(shù)的發(fā)展使得應(yīng)用于光源的白光發(fā)射材料得到高度關(guān)注。近年來(lái)，人們發(fā)現(xiàn)非晶si:c:0:h材料的光致發(fā)光pl)可以覆蓋350~800nm的光譜范圍，因此它成為希望極大的白光發(fā)射候選材料。
為了獲得可能應(yīng)用的白光發(fā)射材料，人們探索了多種非晶si:c:0:h材料的光致發(fā)光性能，如反應(yīng)直流磁控濺射制備的非晶si:c:o:h薄膜、熱蒸發(fā)沉積和融化一涂覆技術(shù)制備的非晶sic,0, 薄膜、反應(yīng)直流磁控濺射和等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積制備的氫化非晶碳化硅6-sic:h)薄膜，以及在線(xiàn)式等離子清洗機(jī)等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積制備的摻硅類(lèi)金剛石碳膜。
在制備這些薄膜時(shí)，通常需要采用較高的沉積溫度或較高的后處理溫度，如熱蒸發(fā)沉積a-sic,o,薄膜的沉積溫度高達(dá)800℃，融化-涂覆技術(shù)制備a-sic,o,薄膜的燒結(jié)溫度更是高達(dá)1300℃。
當(dāng)將發(fā)光材料應(yīng)用于光電集成技術(shù)時(shí)，如此高的溫度可能導(dǎo)致其他材料和器件的損傷，因此發(fā)展低溫下制備非晶si:c:0:h光發(fā)射材料的方法就變得非常重要。硅油是一種含si、c、0、h組分的高分子材料。由于其穩(wěn)定的化學(xué)性能，硅油常常作為發(fā)光材料的封裝材料而在發(fā)光器件中得到應(yīng)用。
近年來(lái)對(duì)非晶si:c:o:h光發(fā)射材料的研究表明材料的光致發(fā)光性能與薄膜中的鍵結(jié)構(gòu)、缺陷、納米顆粒和團(tuán)簇有關(guān)。硅油的鍵結(jié)構(gòu)可以直接用在線(xiàn)式等離子清洗機(jī)ar等離子體處理而改變，因此，可以采用在線(xiàn)式等離子清洗機(jī)設(shè)備處理硅油來(lái)改變硅油結(jié)構(gòu)或制備非晶si:c:o:h薄膜，獲得具有光致發(fā)光特性的改性硅油或非晶si:c:o:h薄膜。
在線(xiàn)式等離子清洗機(jī)等離子體中，放電產(chǎn)生處理硅油所需的活性基團(tuán)，而可以控制轟擊硅油的離子能量，可以將等離子體反應(yīng)與離子轟擊效應(yīng)相結(jié)合，從而改變硅油的結(jié)構(gòu)，獲得具有光致發(fā)光特性的改性硅油或非晶si:c:o:h薄膜。