等離子清洗分為化學(xué)清洗、物理清洗及物理化學(xué)清洗。針對(duì)不同的清洗對(duì)象可選擇o2、h2和ar等藝氣體進(jìn)行短時(shí)間的表面處理。
1.化學(xué)反應(yīng)為主的清洗
利用等離子體里的高活性自由基與材料表面的有(機(jī))物等做化學(xué)反應(yīng)，又稱(chēng)pe。采用氧氣進(jìn)行清洗，使非揮發(fā)性的有(機(jī))物變成易揮發(fā)的形態(tài)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水。化學(xué)清洗的優(yōu)點(diǎn)是清潔速度高、選擇性好和對(duì)清洗有(機(jī))污染物比較有效， 主要缺點(diǎn)是生成的氧化物可能在材料表面再次形成。在引線鍵合工藝中，氧化物是不希望有的， 這些缺點(diǎn)可以通過(guò)適當(dāng)選擇工藝參數(shù)進(jìn)行避免。
2.物理反應(yīng)為主的清洗
利用等離子體里的離子做純物理的撞擊，把材料表面附著的原子打掉，也稱(chēng)為濺射腐蝕（spe）。 采用氬氣進(jìn)行清洗，氬離子以足夠的能量轟擊器 件表面，撞擊力足以去除任(何)污垢。聚合物中的 大分子化學(xué)鍵分離成小分子而汽化，通過(guò)真空泵排 出。同時(shí)經(jīng)過(guò)氬等離子清洗后，能夠改變材料表面 的微觀形態(tài)，使材料在分子級(jí)范圍內(nèi)變得更加“粗 糙”， 可大幅改善表面活性，提高表面的粘結(jié)性 能。氬等離子的優(yōu)點(diǎn)是清理材料表面不會(huì)留下任(何) 氧化物。缺點(diǎn)是可能發(fā)生過(guò)量腐蝕或污染物顆粒重 新積聚在其他不希望的區(qū)域，但是這些缺點(diǎn)可通過(guò) 細(xì)調(diào)工藝參數(shù)得到控制。
3.物理化學(xué)反應(yīng)同時(shí)存在的清洗
反應(yīng)中物理反應(yīng)與化學(xué)反應(yīng)均起重要作用的清洗。 如采用ar和o2的混合氣體進(jìn)行在線式等離子清 洗過(guò)程時(shí)，反應(yīng)速率比單獨(dú)使用ar或o2都要快。氬離子被加速后，產(chǎn)生的動(dòng)能又能提高氧離子的反應(yīng)能力，因此用物理化學(xué)方法可清(除)污染較為嚴(yán)重的材料表面。
目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用的清洗方法主要有濕法清洗和干法清洗。濕法清洗的局限性很大，從對(duì)環(huán)境的影響、原材料的消耗及未來(lái)的發(fā)展考慮，干法清洗要明(顯)優(yōu)于濕法清洗。其中發(fā)展較快和優(yōu)勢(shì)明(顯)的是等離子體清洗。等離子體是指電離氣體，是電子、離子、原子、分子或自由基等粒子組成的集合體 。清洗時(shí)高能電子碰撞反應(yīng)氣體分子，使之離解或電離，利用產(chǎn)生的多種粒子轟擊被清洗表面或與被清洗表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而有效地清(除)各種污染物；還可以改善材料本身的表面性能，如提高表面的潤(rùn)濕性能和改善膜的粘著力等，這在許多應(yīng)用中都是很重要的。經(jīng)等離子清洗后器件表面是干燥的，不需要再處理，可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率；可以使操作者遠(yuǎn)離有害溶劑的傷害；等離子可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗，因此不需要過(guò)多考慮被清洗物件的形狀；還可以處理各種材質(zhì)，尤其適合不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。這些優(yōu)點(diǎn)，都使等離子體清洗得到廣泛關(guān)注。