金相分析時(shí)試樣的拋光目的為去除金相磨面上因細(xì)磨而留下的磨痕,使之成為光滑、無(wú)痕的鏡面。金相試樣的拋光可分為機(jī)械拋光、電解拋光、化學(xué)拋光三類。機(jī)械拋光簡(jiǎn)便易行,應(yīng)用較廣。
(1)機(jī)械拋光
機(jī)械拋光是在的拋光機(jī)上進(jìn)行的,拋光機(jī)主要是由電動(dòng)機(jī)和拋光圓盤(pán)(ф200~300mm)組成,拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速為200~600r/min以上。拋光盤(pán)上鋪以細(xì)帆布、呢絨、絲綢等。拋光時(shí)在拋光盤(pán)上不斷滴注拋光液。拋光液通常采用al2o3、mgo或cr2o3等細(xì)粉末(粒度約為0.3~1μm)在水中的懸浮液。機(jī)械拋光就是靠極細(xì)的拋光粉末與磨面間產(chǎn)生相對(duì)磨削和液壓作用來(lái)消除磨痕的。操作時(shí)將試樣磨面均勻地壓在旋轉(zhuǎn)的拋光盤(pán)上,并沿盤(pán)的邊緣到中心不斷作徑向往復(fù)運(yùn)動(dòng)。拋光時(shí)間一般為3~5min。拋光后的試樣,其磨面應(yīng)光亮無(wú)痕,且石墨或夾雜物等不應(yīng)拋掉或有曳尾現(xiàn)象。這時(shí),試樣先用清水沖詵 ,再用*清洗磨面,zui后用吹風(fēng)機(jī)吹干。
(2)電解拋光
電解拋光是利用陽(yáng)極腐蝕法使試樣表面變得平滑光高的一種方法。將試樣浸入電解液中作陽(yáng)極,用鋁片或不銹鋼片作陰極,使試樣與陰極之間保持一定距離(20~30mm),接通直流電源。當(dāng)電流密度足夠時(shí),試樣磨面即由于電化學(xué)作用而發(fā)生選擇性溶解,從而獲得光滑平整的表面。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是速度快,只產(chǎn)生純化學(xué)的溶解作用而無(wú)機(jī)械力的影響,因此,可避免在機(jī)械拋光時(shí)可能引起的表層金屬的塑性變形,從而能更確切地顯示真實(shí)的金相組織。但電解拋光操作時(shí)工藝規(guī)程不易控制。
(3)化學(xué)拋光
化學(xué)拋光的實(shí)質(zhì)與電解拋光相類似,也是一個(gè)表層溶解過(guò)程。它是一種將化學(xué)試劑涂在試樣表面上約幾秒至幾分鐘,依靠化學(xué)腐蝕作用使表面發(fā)生選擇性溶解,從而得到光滑平整的表面的方法。
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