什么是等離子體態(tài)？
等離子體態(tài)通常會被稱為“物質(zhì)的第四態(tài)”不同于自然界中的固體、液體或氣體，等離子體只能從持續(xù)接受能量的氣體中獲取。
舉個例子，在氣體中放置兩個電極并施加一定的電壓以產(chǎn)生放電，此時便可產(chǎn)生等離子體。這就產(chǎn)生了一種包含許多高活性物質(zhì)的電離介質(zhì)，如離子（帶正電或負(fù)電）和激發(fā)的亞穩(wěn)態(tài)分子。
在表面處理中，正是利用了這些高活性物質(zhì)的特性，讓它們參與非?？焖俚幕瘜W(xué)反應(yīng)。
冷等離子體，熱等離子體？根據(jù)制造等離子體的技術(shù)手段和預(yù)期用途，氣體介質(zhì)的溫度可保持在較低水平，接近環(huán)境溫度；又或者大幅上升，達(dá)到1000℃以上的溫度。這就是所謂的冷等離子體或熱等離子體。
常壓等離子體，或低壓等離子體？
等離子體可在低壓（或真空）或常壓下產(chǎn)生。低壓等離子體需要在真空室中產(chǎn)生，一般是由真空泵制造低于大氣壓的壓力。這類裝置在表面處理方面提供了很大的可能性，但泵送時間的長短往往是其工業(yè)發(fā)展中的一個限制。
在大氣壓力下，等離子體會由專門設(shè)計開發(fā)的設(shè)備中產(chǎn)生。因此常壓等離子體的配置具有雙重經(jīng)濟(jì)優(yōu)勢：它避免了真空室和抽氣裝置的投入成本，并且，通過直接集成到連續(xù)運行的生產(chǎn)線上，這可以直接提高生產(chǎn)效率。
在acxys technologies，令我們引以為豪的等離子體技術(shù)是獨立自主開發(fā)的，包括集成在主機中的可控功率電子裝置，和性能出色的的等離子體源。
我們所開發(fā)的等離子體技術(shù)與設(shè)備，使高速處理材料成為可能，并能與工業(yè)應(yīng)用中涉及的多種材料兼容。
等離子體處理對材料表面的影響等離子體其顯著的化學(xué)反應(yīng)性，可以用來改造許多材料的表面。為了獲得這一結(jié)果，只需將參與反應(yīng)的氣流引向待處理的表面即可。
由此產(chǎn)生的可用于表面處理的化學(xué)反應(yīng)可分為以下三類。
清潔與去污等離子體技術(shù)能夠去除極薄的表面污染層，無論是有機物還是碳?xì)浠衔铩?br>除了基于液體的清潔技術(shù)外，在某些應(yīng)用場景下也會使用等離子體清潔。
表面活化表面活化是通過向材料表層添加原子或分子的方式，改變材料表面性質(zhì)的過程。
這一工藝現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用在工業(yè)生產(chǎn)中，尤其是當(dāng)涉及到需要增強粘合劑、油墨、油漆或清漆的附著力時。
薄膜沉積等離子體技術(shù)同樣也會被應(yīng)用在薄膜沉積的工藝中。
可通過將待沉積的液態(tài)或氣態(tài)化學(xué)制品與等離子體混合，最終沉積在材料表層。