1400℃，1500℃和1600℃硅碳棒內(nèi)蒙古烏海觸摸屏箱式高溫爐
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內(nèi)蒙古烏海觸摸屏箱式高溫爐
馬弗爐以輻射熱加熱樣品，存在樣品表面升溫快、內(nèi)部升溫慢之弊。對(duì)某些樣品，加熱過程中的這種內(nèi)外溫差可能導(dǎo)致加工處理質(zhì)量(如晶型)不均一，甚至樣品破裂。在快速升溫時(shí)尤其如此(圖1)。
微波爐可同時(shí)對(duì)樣品外部和內(nèi)部加熱，但樣品外部由于散熱，其溫度將低于內(nèi)部。這種溫差同樣會(huì)導(dǎo)致與上述馬弗爐類似的問題。
內(nèi)蒙古烏海觸摸屏箱式高溫爐令樣品內(nèi)外部同步升溫，整個(gè)樣品在加熱過程中溫度均勻，從而可改進(jìn)熱處理質(zhì)量，防止樣品因溫差引起破裂，且可以更快的速度升溫。