硬盤磁頭, 是硬盤讀取數(shù)據(jù)的關(guān)鍵部件, 磁頭的好壞在很大程度上決定著硬盤盤片的存儲密度.
gmr 磁頭的使用了磁阻效應(yīng)更好的材料和多層薄膜結(jié)構(gòu), 這比以前的傳統(tǒng)磁頭和mr（magneto resisive）磁阻磁頭更為敏感, 相對的磁場變化能引起來大的電阻值變化, 從而實(shí)現(xiàn)更高的存儲密度.
某硬盤磁頭制造商采用伯東hakuto 離子蝕刻機(jī) 20ibe-j應(yīng)用于硬盤磁頭鍍制gmr磁頭導(dǎo)電材料和磁性材料薄膜構(gòu).
hakuto 離子蝕刻機(jī) 20ibe-j技術(shù)參數(shù)
φ4 inch x 12片
基片尺寸
φ4 inch x 12片
φ5 inch x 10片
φ6 inch x 8片
均勻性
±5%
硅片刻蝕率
20 nm/min
樣品臺
直接冷卻,水冷
離子源
φ20cm 考夫曼離子源
hakuto 離子刻蝕機(jī) 20ibe-j 的核心構(gòu)件離子源采用的是伯東公司代理美國 考夫曼博士創(chuàng)立的 kri考夫曼公司的射頻離子源 rficp220
伯東 kri射頻離子源rficp 220 技術(shù)參數(shù):
離子源型號
rficp 220
discharge
rficp 射頻
離子束流
>800 ma
離子動能
100-1200 v
柵極直徑
20 cm φ
離子束
聚焦, 平行, 散射
流量
10-40 sccm
通氣
ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
典型壓力
< 0.5m torr
長度
30 cm
直徑
41 cm
中和器
lfn 2000
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
hakuto 離子刻蝕機(jī) 20ibe-j 的樣品臺可以 0-90 度旋轉(zhuǎn), 實(shí)現(xiàn) gmr 磁頭均勻地接受離子的轟擊, 進(jìn)而實(shí)現(xiàn)提高 gmr 磁頭的加工質(zhì)量.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :
上海伯東 : 羅先生