thermocera薄膜實驗設備介紹
【minilab系列柔性薄膜實驗設備】可根據(jù)各種客戶要求模塊化配置進行定制。 我們還滿足高規(guī)格要求，如多路濺射、氣相沉積、多維同步成膜和多腔室系統(tǒng)。 所有組件都存儲在 19 英寸機架（單、雙、三）的緊湊框架中，所有操作和數(shù)據(jù)管理都可以通過單個 7 英寸觸摸面板（或 windows pc）集中管理。 我們通過與手套箱無縫連接、氣相沉積掩模/基板自動轉(zhuǎn)換器、去除 1d/pmma 等抗蝕劑的“軟蝕刻”和晶圓級石墨烯合成設備 [nanocvd-wgp（minilab-2 的應用設備）]等原創(chuàng)技術為研究和開發(fā)做出貢獻。
真空沉積（金屬和有機材料）
磁控濺射
電子束沉積
射頻/直流等離子體蝕刻
退火
熱cvd
相關產(chǎn)品介紹
minilab系列柔性薄膜實驗室設備由于它是模塊化的內(nèi)置類型，因此可以根據(jù)所需的膜類型和工藝組裝專用機器。 靈活的緊湊型實驗設備，可用于各種用途。
ml-gb-026/090手套箱薄膜實驗室設備通過將pvd腔室存儲在gb中，可以在“無氧/無濕氣”的實驗環(huán)境中無縫執(zhí)行氣相沉積，飛濺和退火等所有操作。
納米cvd-wgp晶圓級石墨烯合成器φ3英寸和φ4英寸晶圓尺寸的石墨烯合成器。 通過抑制雜質(zhì)高速合成清潔、高質(zhì)量的石墨烯。 它可用于熱cvd或低溫/高溫等離子cvd。
納米爐熱cvd機緊湊型臺式熱壁式熱cvd系統(tǒng)。 4.工藝氣體系統(tǒng)，高精度apc工藝壓力控制。 均勻加熱實驗可以在反應管中的穩(wěn)定氣氛中進行。
pld-1000 pld薄膜沉積設備藍波半導體 pld1000