等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應(yīng)，將反應(yīng)氣體激活為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，形成揮發(fā)性反應(yīng)物，這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術(shù)是電漿特殊特性的應(yīng)用。等離子體清洗蝕刻技術(shù)的形成設(shè)備，是在密閉器皿內(nèi)用進口真空泵達到相應(yīng)的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長，在電場的作用下碰撞形成等離子體，這些離子活性很高，能量破壞了化學(xué)鍵的大部分化學(xué)鍵。
等離子體刻蝕機清洗技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)、航空航天技術(shù)、精密機械、醫(yī)療、塑料、印刷、、液晶顯示屏、電子電路、手機零部件等廣泛的行業(yè)中有著不可替代的應(yīng)用。
等離子體刻蝕機清洗技術(shù)在塑料及橡膠行業(yè)中的應(yīng)用：
丙烯類塑料材料是無極性的，這些產(chǎn)品在印刷、粘合、涂布等未經(jīng)表面處理狀態(tài)下的效果非常差，甚至不能做。采用等離子蝕刻機技術(shù)對產(chǎn)品做表面處理，可增強表面粘合力和粘接強度。然而，等離子刻蝕機清洗工藝中，工藝氣體、氣體流量、功率、處理時間等因素都會影響清洗工藝，如果合理地選擇這些參數(shù)，將有效地增強處理的效果。在金屬、陶瓷和玻璃等表面上，通常會有有機物質(zhì)和氧化層，在做粘接、連接、焊接、銅焊和cvd前，都需要使用等離子刻蝕機處理才能獲得潔凈的無氧化層。